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深能級(jí)瞬態(tài)譜儀是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要儀器。根據(jù)半導(dǎo)體P-N結(jié)、金－半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C～t）技術(shù)和深能級(jí)瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術(shù)測(cè)量出的深能級(jí)瞬態(tài)譜，是一種具有高檢測(cè)靈敏度(檢測(cè)靈敏度通常為半導(dǎo)體材料中摻雜濟(jì)濃度的萬(wàn)分之一)的實(shí)驗(yàn)方法，能檢測(cè)半導(dǎo)體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級(jí)及界面態(tài)。通過對(duì)樣品的溫度掃描，可以給出表征半導(dǎo)體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜，集成多種全自動(dòng)的測(cè)量模式及全...

表面光電壓譜主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料或者器件的TPV測(cè)試和機(jī)理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子篩、太陽(yáng)能電池（單晶、多晶、染料敏化、鈣鈦礦）、光電化學(xué)的TPV、電化學(xué)材料的TPV等。光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器；采用專有技術(shù)的電磁屏蔽，無(wú)任何外界干擾；測(cè)試光路，水平與垂直可任意在線切換，實(shí)現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測(cè)試分析。光生載流子動(dòng)力學(xué)主要測(cè)試技術(shù)，載流子動(dòng)力學(xué)測(cè)試技術(shù)主要有電學(xué)和譜學(xué)兩類.電學(xué)方法主要是光電化學(xué)，測(cè)量...

氣溶膠粒徑譜儀觸摸屏式顯示和操作，集成網(wǎng)絡(luò)服務(wù)器，實(shí)時(shí)顯示測(cè)量數(shù)據(jù)，無(wú)需外接電腦，單臺(tái)儀器可以連續(xù)自動(dòng)測(cè)量數(shù)周，儀器配置標(biāo)準(zhǔn)接口，過程控制系統(tǒng)或通用程序可以控制該儀器，所以特別適用于控制和監(jiān)測(cè)。粉塵發(fā)生器用于測(cè)量不同高度的飄浮顆粒物。樣品流量由外置真空泵來維持供給，其流量大小由定流量孔口流量計(jì)來控制。儀器可實(shí)時(shí)檢測(cè)氣溶膠顆粒，粒徑范圍在0.25微米至32微米，具有31個(gè)粒徑通道，測(cè)量結(jié)果可顯示為顆粒數(shù)目濃度或選擇顯示為顆粒質(zhì)量濃度。粉塵發(fā)生器易于安裝、結(jié)構(gòu)靈活、使用方便，只需...

多功能磁控濺射儀可以靈活運(yùn)用多種膜生長(zhǎng)技術(shù)，針對(duì)各種不同大小和形狀的樣品，非常方便切換沉積模式。多功能磁控濺射儀腔體的開放式設(shè)計(jì)，使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個(gè)樣品并同時(shí)鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個(gè)300mm寬的快速通道門，可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對(duì)于薄膜制備研究機(jī)構(gòu)，面對(duì)多種材料增加或改變沉積方式，轉(zhuǎn)換起來非常方便，并沒有任何空間限制。濺射儀主要用于納米級(jí)的單層及多層功能膜、各種硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、鐵磁膜和磁性...

狹縫擠出式涂布機(jī)使用精密計(jì)量泵將過濾、除泡后的流體，保持恒定壓力輸送至超精密加工進(jìn)口耐腐合金材料制擠壓腔體內(nèi)，通過直線吐出口將流體流延到片幅上。銅箔（或鋁箔）由放料機(jī)構(gòu)通過張力控制自動(dòng)糾偏放料，通過擠壓頭將流體涂覆到箔帶表面，涂好的箔帶經(jīng)烘箱烘干，通過糾偏及張力控制，整齊復(fù)卷到收料氣漲軸，連續(xù)涂布，間隙涂布，連續(xù)斑馬紋涂布，“田”字格涂布（間隙涂布配合斑馬紋涂布）。擠壓頭采用日本優(yōu)質(zhì)耐腐，新型超硬不銹鋼制作，采用進(jìn)口精密計(jì)量泵供料，精密伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)，保證漿料流速穩(wěn)定。狹縫擠出...

磁控濺射鍍膜機(jī)是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。一、原理：磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子...